掺Er-Al2O3薄膜发光特性的研究
참Er-Al2O3박막발광특성적연구
Photoluminescence characterization of Er-implanted Al2O3 thin films
  • 万方数据
    功能材料与器件学报 공능재료여기건학보
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
    2004年 1期 29-32 ,共4页

    肖海波%张峰%张昌盛%程新利%王永进%陈志君%林志浪%张福民%邹世昌

    초해파%장봉%장창성%정신리%왕영진%진지군%림지랑%장복민%추세창

    掺Er-Al2O3薄膜%PL谱%光透射谱 摻Er-Al2O3薄膜%PL譜%光透射譜
    참Er-Al2O3박막%PL보%광투사보
    通过离子束辅助沉积(IBAD)在热氧化SiO2上沉积Al2O3薄膜,在120keV下注入5×10115cm-2Er离子,Ar气氛下773～1273K退火1h.低温下测试PL谱线,随退火温度升高,发光强度上升.973K退火下发光强度特别低,并观察到Si衬底的1140nm峰.光透射谱表明几乎在所有的测试范围内尤其在1530nm处973K退火样品的透射谱强度最强,波导损耗最低.1530nm发光强度随退火温度的变化跟发光强度的变化相反.说明Er离子在514.5nm泵谱吸收界面σ跟Al2O3的光吸收损耗有一定关系.
    통과리자속보조침적(IBAD)재열양화SiO2상침적Al2O3박막,재120keV하주입5×10115cm-2Er리자,Ar기분하773～1273K퇴화1h.저온하측시PL보선,수퇴화온도승고,발광강도상승.973K퇴화하발광강도특별저,병관찰도Si츤저적1140nm봉.광투사보표명궤호재소유적측시범위내우기재1530nm처973K퇴화양품적투사보강도최강,파도손모최저.1530nm발광강도수퇴화온도적변화근발광강도적변화상반.설명Er리자재514.5nm빙보흡수계면σ근Al2O3적광흡수손모유일정관계.
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