强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2007年
8期
1271-1274
,共4页
皮秒脉冲激光%铜靶%平衡刻蚀%数值模拟
皮秒脈遲激光%銅靶%平衡刻蝕%數值模擬
피초맥충격광%동파%평형각식%수치모의
利用数值模拟方法,研究波长1 064 nm、脉冲宽度介于1～20 ps的激光在刻蚀铜靶时,单次脉冲作用下非平衡场刻蚀和热平衡刻蚀两种机制的竞争过程.结果表明:随着脉冲宽度的增加,刻蚀过程由非平衡电荷分离场刻蚀占主导地位转变为热平衡刻蚀起主要作用,且脉冲宽度和激光峰值功率密度增大到一定程度后,各种电子加速机制在不同时刻开始突显,电子能量分布出现多峰结构.在能量密度为15 J/cm2的激光作用下,1和5 ps脉宽对应的非平衡场刻蚀深度分别为110和101 nm,10和20 ps脉宽分别为25和18 nm.
利用數值模擬方法,研究波長1 064 nm、脈遲寬度介于1～20 ps的激光在刻蝕銅靶時,單次脈遲作用下非平衡場刻蝕和熱平衡刻蝕兩種機製的競爭過程.結果錶明:隨著脈遲寬度的增加,刻蝕過程由非平衡電荷分離場刻蝕佔主導地位轉變為熱平衡刻蝕起主要作用,且脈遲寬度和激光峰值功率密度增大到一定程度後,各種電子加速機製在不同時刻開始突顯,電子能量分佈齣現多峰結構.在能量密度為15 J/cm2的激光作用下,1和5 ps脈寬對應的非平衡場刻蝕深度分彆為110和101 nm,10和20 ps脈寬分彆為25和18 nm.
이용수치모의방법,연구파장1 064 nm、맥충관도개우1～20 ps적격광재각식동파시,단차맥충작용하비평형장각식화열평형각식량충궤제적경쟁과정.결과표명:수착맥충관도적증가,각식과정유비평형전하분리장각식점주도지위전변위열평형각식기주요작용,차맥충관도화격광봉치공솔밀도증대도일정정도후,각충전자가속궤제재불동시각개시돌현,전자능량분포출현다봉결구.재능량밀도위15 J/cm2적격광작용하,1화5 ps맥관대응적비평형장각식심도분별위110화101 nm,10화20 ps맥관분별위25화18 nm.
