应用化学
應用化學
응용화학
CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY
2010年
8期
970-977
,共8页
魏旭%郝青丽%陆路德%汪信%杨绪杰
魏旭%郝青麗%陸路德%汪信%楊緒傑
위욱%학청려%륙로덕%왕신%양서걸
交流阻抗谱%SH-ssDNA%自组装%杂交%取向
交流阻抗譜%SH-ssDNA%自組裝%雜交%取嚮
교류조항보%SH-ssDNA%자조장%잡교%취향
利用电化学交流阻抗技术对SH-ssDNA在纳米金薄膜电极表面的自组装、杂交和取向进行了系统表征. 探讨了SH-ssDNA的组装时间、浓度和链长对其自组装的影响,自组装15 h时电荷传递电阻Rct最大,表面覆盖率最高;研究了SH-ssDNA的浓度、链长以及与互补DNA的杂交方式对杂交反应的影响. 结果发现,随着单链浓度的增加,杂交后Rct的变化值逐渐降低,当SH-ssDNA为5 μmol/L时Rct值比杂交前增加了16%. 通过对阻抗谱数据模拟和分析,表明SH-ssDNA以垂直竖立取向在金电极表面形成均匀致密单分子层,杂交效率与SH-ssDNA的覆盖率密切相关.
利用電化學交流阻抗技術對SH-ssDNA在納米金薄膜電極錶麵的自組裝、雜交和取嚮進行瞭繫統錶徵. 探討瞭SH-ssDNA的組裝時間、濃度和鏈長對其自組裝的影響,自組裝15 h時電荷傳遞電阻Rct最大,錶麵覆蓋率最高;研究瞭SH-ssDNA的濃度、鏈長以及與互補DNA的雜交方式對雜交反應的影響. 結果髮現,隨著單鏈濃度的增加,雜交後Rct的變化值逐漸降低,噹SH-ssDNA為5 μmol/L時Rct值比雜交前增加瞭16%. 通過對阻抗譜數據模擬和分析,錶明SH-ssDNA以垂直豎立取嚮在金電極錶麵形成均勻緻密單分子層,雜交效率與SH-ssDNA的覆蓋率密切相關.
이용전화학교류조항기술대SH-ssDNA재납미금박막전겁표면적자조장、잡교화취향진행료계통표정. 탐토료SH-ssDNA적조장시간、농도화련장대기자조장적영향,자조장15 h시전하전체전조Rct최대,표면복개솔최고;연구료SH-ssDNA적농도、련장이급여호보DNA적잡교방식대잡교반응적영향. 결과발현,수착단련농도적증가,잡교후Rct적변화치축점강저,당SH-ssDNA위5 μmol/L시Rct치비잡교전증가료16%. 통과대조항보수거모의화분석,표명SH-ssDNA이수직수립취향재금전겁표면형성균균치밀단분자층,잡교효솔여SH-ssDNA적복개솔밀절상관.
