材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2011年
10期
115-118
,共4页
许文娟%焦晨旭%白明轩%韩媛媛
許文娟%焦晨旭%白明軒%韓媛媛
허문연%초신욱%백명헌%한원원
碳纳米管%碳糊电极%铜%循环伏安法
碳納米管%碳糊電極%銅%循環伏安法
탄납미관%탄호전겁%동%순배복안법
制备了碳纳米管修饰碳糊电极,并研究了铜离子在该电极上的循环伏安行为,建立了一种测定铜离子的新方法.结果表明,在pH=3.4的B-R缓冲溶液中,该电极在铜离子标准溶液中富集Cu2+,在-0.072V处产生一个还原峰,回扫时在0.059V处产生一个氧化峰,电极反应是可逆的.Cu2+浓度对数在1.0×10-7～1.0×10-4mol/L内与电位呈良好的线性关系,其检测下限为5.4×10-8mol/L.
製備瞭碳納米管脩飾碳糊電極,併研究瞭銅離子在該電極上的循環伏安行為,建立瞭一種測定銅離子的新方法.結果錶明,在pH=3.4的B-R緩遲溶液中,該電極在銅離子標準溶液中富集Cu2+,在-0.072V處產生一箇還原峰,迴掃時在0.059V處產生一箇氧化峰,電極反應是可逆的.Cu2+濃度對數在1.0×10-7～1.0×10-4mol/L內與電位呈良好的線性關繫,其檢測下限為5.4×10-8mol/L.
제비료탄납미관수식탄호전겁,병연구료동리자재해전겁상적순배복안행위,건립료일충측정동리자적신방법.결과표명,재pH=3.4적B-R완충용액중,해전겁재동리자표준용액중부집Cu2+,재-0.072V처산생일개환원봉,회소시재0.059V처산생일개양화봉,전겁반응시가역적.Cu2+농도대수재1.0×10-7～1.0×10-4mol/L내여전위정량호적선성관계,기검측하한위5.4×10-8mol/L.
