电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2010年
1期
34-36
,共3页
离子束%刻蚀%均匀性
離子束%刻蝕%均勻性
리자속%각식%균균성
介绍了一种新型离子束刻蚀装置.该装置具有如下特点:工件台可进行二维运动,带有自动挡板机构和独立的测束装置,中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的平行束离子源,以及分子泵加机械泵的真空系统.工艺试验结果表明,该设备是一台先进的半导体工艺设备,性能稳定.刻蚀均匀性可达±4%.
介紹瞭一種新型離子束刻蝕裝置.該裝置具有如下特點:工件檯可進行二維運動,帶有自動擋闆機構和獨立的測束裝置,中國電子科技集糰公司第四十八研究所研製的平行束離子源,以及分子泵加機械泵的真空繫統.工藝試驗結果錶明,該設備是一檯先進的半導體工藝設備,性能穩定.刻蝕均勻性可達±4%.
개소료일충신형리자속각식장치.해장치구유여하특점:공건태가진행이유운동,대유자동당판궤구화독립적측속장치,중국전자과기집단공사제사십팔연구소연제적평행속리자원,이급분자빙가궤계빙적진공계통.공예시험결과표명,해설비시일태선진적반도체공예설비,성능은정.각식균균성가체±4%.
