光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2009年
6期
72-75
,共4页
薛锦%王平秋%刘琼%代礼密
薛錦%王平鞦%劉瓊%代禮密
설금%왕평추%류경%대례밀
光学薄膜%负非均匀性%膜料固相混合%膜层微观结构
光學薄膜%負非均勻性%膜料固相混閤%膜層微觀結構
광학박막%부비균균성%막료고상혼합%막층미관결구
ZrO2膜层具有明显的负非均匀性,严重影响了在光学薄膜制备中的应用,特别是对多层增透膜有明显的影响.通过对膜层微观结构及生长成核过程的研究,揭示了ZrO2膜层负非均匀性产生的原因及特点.基于此,在ZrO2膜料中掺如一定量的Gd2O3膜料,在电子束蒸发和适当的真空度、淀积速率、基底温度等工艺条件下,明显地降低了ZrO2膜层折射率的负非均匀性,从而提高ZrO2膜层光学使用性能.
ZrO2膜層具有明顯的負非均勻性,嚴重影響瞭在光學薄膜製備中的應用,特彆是對多層增透膜有明顯的影響.通過對膜層微觀結構及生長成覈過程的研究,揭示瞭ZrO2膜層負非均勻性產生的原因及特點.基于此,在ZrO2膜料中摻如一定量的Gd2O3膜料,在電子束蒸髮和適噹的真空度、澱積速率、基底溫度等工藝條件下,明顯地降低瞭ZrO2膜層摺射率的負非均勻性,從而提高ZrO2膜層光學使用性能.
ZrO2막층구유명현적부비균균성,엄중영향료재광학박막제비중적응용,특별시대다층증투막유명현적영향.통과대막층미관결구급생장성핵과정적연구,게시료ZrO2막층부비균균성산생적원인급특점.기우차,재ZrO2막료중참여일정량적Gd2O3막료,재전자속증발화괄당적진공도、정적속솔、기저온도등공예조건하,명현지강저료ZrO2막층절사솔적부비균균성,종이제고ZrO2막층광학사용성능.
