OEIC台面腐蚀工艺研究
OEIC태면부식공예연구
Research on the Mesa Etch of OEIC
  • 万方数据
    固体电子学研究与进展 고체전자학연구여진전
    RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
    2009年 2期 241-244 ,共4页

    范超%栗锐%陈堂胜%杨立杰%冯欧%冯忠%陈辰%焦世龙%叶玉堂

    범초%률예%진당성%양립걸%풍구%풍충%진신%초세룡%협옥당

    腐蚀自停止%光电集成电路%台面工艺 腐蝕自停止%光電集成電路%檯麵工藝
    부식자정지%광전집성전로%태면공예
    深入研究了牺牲层腐蚀机制,摸索出完整的台面自停止工艺并实际应用于OEIC器件制作.实验中发现了侧蚀、台面变形以及表面清洁等问题,从实验现象着手分析,并由此对工艺进行了改进,采用了新的腐蚀剂和工艺步骤.改进后的工艺解决了上述问题,可以完全满足后续工艺的要求.
    심입연구료희생층부식궤제,모색출완정적태면자정지공예병실제응용우OEIC기건제작.실험중발현료측식、태면변형이급표면청길등문제,종실험현상착수분석,병유차대공예진행료개진,채용료신적부식제화공예보취.개진후적공예해결료상술문제,가이완전만족후속공예적요구.
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