电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用
전자속광각재납미가공급기건제비중적응용
Electron Beam Lithography Application on the Nanofabrication and Nanodevice
  • 万方数据
    微纳电子技术 미납전자기술
    MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
    2008年 12期 683-688 ,共6页

    陈宝钦%赵珉%吴璇%牛洁斌%刘键%任黎明%王琴%朱效立%徐秋霞%谢常青%刘明

    진보흠%조민%오선%우길빈%류건%임려명%왕금%주효립%서추하%사상청%류명

    电子束光刻%电子束直写%电子束邻近效应校正%纳米制造%纳米器件%纳米结构 電子束光刻%電子束直寫%電子束鄰近效應校正%納米製造%納米器件%納米結構
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    电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用.介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOL JBX 5000LS、JBX 6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电子束直写系统所开展的纳米器件和纳米结构制造工艺技术方面的研究.重点阐述了如何利用电子束直写技术实现纳米器件和纳米结构的电子束光刻.针对电子束光刻效率低和电子束光刻邻近效应等问题所采取的措施;采用无宽度线曝光技术和高分辨率、高反差、低灵敏度电子抗蚀剂相结合实现电子束纳米尺度光刻以及采用电子束光刻与X射线曝光相结合的技术实现高高宽比的纳米尺度结构的加工等具体工艺技术问题展开讨论.
    전자속광각기술시추동미미전자학화미납미가공발전적관건기술,우기재납미제조영역중기착불가체대적작용.개소료중국과학원미전자연구소옹유JEOL JBX 5000LS、JBX 6300FS납미전자속광각계통화전자현미경계통적전자속광각기술실험실,이용전자속직사계통소개전적납미기건화납미결구제조공예기술방면적연구.중점천술료여하이용전자속직사기술실현납미기건화납미결구적전자속광각.침대전자속광각효솔저화전자속광각린근효응등문제소채취적조시;채용무관도선폭광기술화고분변솔、고반차、저령민도전자항식제상결합실현전자속납미척도광각이급채용전자속광각여X사선폭광상결합적기술실현고고관비적납미척도결구적가공등구체공예기술문제전개토론.
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