光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2008年
7期
1225-1230
,共6页
朱伟忠%吴衍青%陈敏%王纳秀%邰仁忠%徐洪杰
硃偉忠%吳衍青%陳敏%王納秀%邰仁忠%徐洪傑
주위충%오연청%진민%왕납수%태인충%서홍걸
干涉光刻%软X射线透射光栅%严格耦合波方法%复折射率%衍射效率
榦涉光刻%軟X射線透射光柵%嚴格耦閤波方法%複摺射率%衍射效率
간섭광각%연X사선투사광책%엄격우합파방법%복절사솔%연사효솔
基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响.结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显.最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅.
基于嚴格的矢量耦閤波方法,結閤納米級光柵實際製作工藝,定量分析瞭在13.4 nm軟X射線(TE偏振)正入射條件下,光柵材料、厚度、佔空比、梯形浮彫底角大小等因素對光柵一級衍射效率的影響.結果錶明,在此波段處,Si3N4、Cr、Au浮彫的相位作用對光柵衍射起重要影響,其中非金屬材料Si3N4比金屬材料Cr、Au的相位作用更明顯.最後優化得到瞭用Si(或Si3N4)做襯底的si3N4、Cr、Au光柵,分析結果顯示,其一級衍射效率優于目前用于13.4 nm軟X射線榦涉光刻的Cr、Si3N4複閤光柵.
기우엄격적시량우합파방법,결합납미급광책실제제작공예,정량분석료재13.4 nm연X사선(TE편진)정입사조건하,광책재료、후도、점공비、제형부조저각대소등인소대광책일급연사효솔적영향.결과표명,재차파단처,Si3N4、Cr、Au부조적상위작용대광책연사기중요영향,기중비금속재료Si3N4비금속재료Cr、Au적상위작용경명현.최후우화득도료용Si(혹Si3N4)주츤저적si3N4、Cr、Au광책,분석결과현시,기일급연사효솔우우목전용우13.4 nm연X사선간섭광각적Cr、Si3N4복합광책.
