厦门大学学报（自然科学版）
廈門大學學報（自然科學版）
하문대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF XIAMEN UNIVERSITY (NATURAL SCIENCE)
2000年
6期
781-785
,共5页
曹刚敏%杨防祖%黄令%牛振江%许书楷%周绍民
曹剛敏%楊防祖%黃令%牛振江%許書楷%週紹民
조강민%양방조%황령%우진강%허서해%주소민
Ni-W-B合金%电沉积%结构%显微硬度
Ni-W-B閤金%電沉積%結構%顯微硬度
Ni-W-B합금%전침적%결구%현미경도
采用电化学技术、XRD、DSC等方法研究电流密度对Ni-W-B合金电沉积、镀层结构和显微硬度的影响,结果表明:沉积电流密度提高,Ni-W-B合金电沉积层W含量增大,B含量降低,电沉积电流效率降低.所获得的合金镀层表现为亚稳态纳米晶结构.在不同电流密度下获得的Ni-W-B合金电沉积层的显微硬度值接近,约为650 kg/mm2,与Ni-W合金相比有明显提高.
採用電化學技術、XRD、DSC等方法研究電流密度對Ni-W-B閤金電沉積、鍍層結構和顯微硬度的影響,結果錶明:沉積電流密度提高,Ni-W-B閤金電沉積層W含量增大,B含量降低,電沉積電流效率降低.所穫得的閤金鍍層錶現為亞穩態納米晶結構.在不同電流密度下穫得的Ni-W-B閤金電沉積層的顯微硬度值接近,約為650 kg/mm2,與Ni-W閤金相比有明顯提高.
채용전화학기술、XRD、DSC등방법연구전류밀도대Ni-W-B합금전침적、도층결구화현미경도적영향,결과표명:침적전류밀도제고,Ni-W-B합금전침적층W함량증대,B함량강저,전침적전류효솔강저.소획득적합금도층표현위아은태납미정결구.재불동전류밀도하획득적Ni-W-B합금전침적층적현미경도치접근,약위650 kg/mm2,여Ni-W합금상비유명현제고.
