光学技术
光學技術
광학기술
OPTICAL TECHNOLOGY
2007年
2期
302-304
,共3页
王彤彤%高劲松%王笑夷%宋琦%陈红%郑宣明%申振峰%单兆会
王彤彤%高勁鬆%王笑夷%宋琦%陳紅%鄭宣明%申振峰%單兆會
왕동동%고경송%왕소이%송기%진홍%정선명%신진봉%단조회
Ge1-xCx%低压反应离子镀(RLVIP)%增透膜%非均匀膜
Ge1-xCx%低壓反應離子鍍(RLVIP)%增透膜%非均勻膜
Ge1-xCx%저압반응리자도(RLVIP)%증투막%비균균막
用低压反应离子镀(RLVIP)的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜.随着沉积速率在0.05～0.4nm/s之间的变化,其折射率在2.31～3.42之间可变.实验结果表明,镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为无定形结构,并实现了从2000～8000nm的宽波段增透.当沉积速率为0.1nm/s时,单面平均透过率从68.6%提高到了80.9%,比单面未镀膜时提高了17.9%.通过对薄膜的稳定性和牢固度进行测试表明,制备的Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜具有良好的性能.
用低壓反應離子鍍(RLVIP)的方法在Ge基底上製備瞭Ge1-xCx單層非均勻增透薄膜.隨著沉積速率在0.05～0.4nm/s之間的變化,其摺射率在2.31～3.42之間可變.實驗結果錶明,鍍製的Ge1-xCx單層非均勻增透保護薄膜均為無定形結構,併實現瞭從2000～8000nm的寬波段增透.噹沉積速率為0.1nm/s時,單麵平均透過率從68.6%提高到瞭80.9%,比單麵未鍍膜時提高瞭17.9%.通過對薄膜的穩定性和牢固度進行測試錶明,製備的Ge1-xCx單層非均勻增透薄膜具有良好的性能.
용저압반응리자도(RLVIP)적방법재Ge기저상제비료Ge1-xCx단층비균균증투박막.수착침적속솔재0.05～0.4nm/s지간적변화,기절사솔재2.31～3.42지간가변.실험결과표명,도제적Ge1-xCx단층비균균증투보호박막균위무정형결구,병실현료종2000～8000nm적관파단증투.당침적속솔위0.1nm/s시,단면평균투과솔종68.6%제고도료80.9%,비단면미도막시제고료17.9%.통과대박막적은정성화뢰고도진행측시표명,제비적Ge1-xCx단층비균균증투박막구유량호적성능.
