CAJ | 학술논문

利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为1 mm×1 mm,周期为300 nm,金吸收体厚度为1 μm的用于X射线显微成像的透射光栅.首先,利用电子束光刻和微电镀技术在Si3N4薄膜上制作周期为300 nm,厚度为250 nm的高线密度光栅掩模;然后,利用X射线光刻和微电镀技术复制厚度为1 μm,占空比接近1∶1,高宽比为7的X射线透射光栅.整个工艺流程充分利用了电子束光刻技术制作高分辨率图形和X射线光刻技术制作大高宽比结构的优点,实现了大高宽比、纳米尺度、侧壁陡直的X射线透射光栅的制作.
이용전자속광각、X사선광각화미전도기술,성공제작료면적위1 mm×1 mm,주기위300 nm,금흡수체후도위1 μm적용우X사선현미성상적투사광책.수선,이용전자속광각화미전도기술재Si3N4박막상제작주기위300 nm,후도위250 nm적고선밀도광책엄모;연후,이용X사선광각화미전도기술복제후도위1 μm,점공비접근1∶1,고관비위7적X사선투사광책.정개공예류정충분이용료전자속광각기술제작고분변솔도형화X사선광각기술제작대고관비결구적우점,실현료대고관비、납미척도、측벽두직적X사선투사광책적제작.