真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2009年
2期
173-179
,共7页
何俊鹏%章岳光%沈伟东%刘旭%顾培夫
何俊鵬%章嶽光%瀋偉東%劉旭%顧培伕
하준붕%장악광%침위동%류욱%고배부
原子层沉积%光学薄膜%前驱体%光子晶体
原子層沉積%光學薄膜%前驅體%光子晶體
원자층침적%광학박막%전구체%광자정체
回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用.同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望.
迴顧瞭原子層沉積(ALD)技術的髮展揹景,通過分析ALD的基本工藝,併與傳統薄膜製備工藝進行瞭對比研究.介紹瞭它在膜層的均勻性、保形性以及膜厚控製能力等方麵的優勢.著重列舉ALD在減反膜、紫外截止膜、摺射率可調的薄膜、抗激光損傷薄膜及複雜結構光子晶體等方麵的應用.同時指齣瞭目前ALD工藝在光學薄膜應用中存在的主要問題,併對ALD未來的髮展進行瞭展望.
회고료원자층침적(ALD)기술적발전배경,통과분석ALD적기본공예,병여전통박막제비공예진행료대비연구.개소료타재막층적균균성、보형성이급막후공제능력등방면적우세.착중열거ALD재감반막、자외절지막、절사솔가조적박막、항격광손상박막급복잡결구광자정체등방면적응용.동시지출료목전ALD공예재광학박막응용중존재적주요문제,병대ALD미래적발전진행료전망.
