埋点靶制备工艺研究
매점파제비공예연구
Study on the Fabrication Technology of the Microspot Targets
  • 万方数据
    原子能科学技术 원자능과학기술
    ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY
    2002年 4期 313-315 ,共3页

    张占文%许华%魏胜%吴卫东%余斌%张昭瑞%黄丽珍%罗青%袁玉萍%高党忠%袁光辉%郑永铭%陆晓明

    장점문%허화%위성%오위동%여빈%장소서%황려진%라청%원옥평%고당충%원광휘%정영명%륙효명

    埋点靶%制备%CH薄膜 埋點靶%製備%CH薄膜
    매점파%제비%CH박막
    研究了激光惯性约束聚变(ICF)实验中一种基础基准靶埋点靶的制备工艺过程.埋点靶的制备过程主要包括CH膜的制备、埋点的定位和埋点材料的制备.其中,CH薄膜的制备及其性质是制备埋点靶的关键工艺环节.最后给出了埋点靶的制备工艺流程.
    연구료격광관성약속취변(ICF)실험중일충기출기준파매점파적제비공예과정.매점파적제비과정주요포괄CH막적제비、매점적정위화매점재료적제비.기중,CH박막적제비급기성질시제비매점파적관건공예배절.최후급출료매점파적제비공예류정.
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