射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性
사빈교체천사법제비적NiZn철양체박막적결구여자성
Structure and Magnetic Properties of NiZn Films Fabricated by Alternative Sputtering Technique
  • 万方数据
    宁波大学学报（理工版） 저파대학학보（리공판）
    JOURNAL OF NINGBO UNIVERSITY(NSEE)
    2010年 1期 115-117 ,共3页

    王海波%孙建荣%王兰喜%魏福林%王丽%王建波%李发伸%沈宝龙

    왕해파%손건영%왕란희%위복림%왕려%왕건파%리발신%침보룡

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    使用交替靶射频溅射的方法在不同基底上制备得到了成分为NiZn1-xFe2O4的铁氧体薄膜,研究了NiZn铁氧体薄膜的生长条件,探讨了不同工艺条件对薄膜性能的影响,目的是提高薄膜饱和磁化强度Ms,降低薄膜矫顽力Hc,改善薄膜的软磁性能,以满足其在高频薄膜器件应用方面的需要.实验表明:沉积态薄膜即为尖晶石结构.并且通过不同实验条件对NiZn铁氧体薄膜性能影响的研究,得到了最佳的NiZn铁氧体薄膜的制备条件.
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