光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2003年
5期
1-3,10
,共4页
余国彬%姚汉民%罗先刚%严佩英
餘國彬%姚漢民%囉先剛%嚴珮英
여국빈%요한민%라선강%엄패영
超微细光刻%偏振光%像质%数值孔径
超微細光刻%偏振光%像質%數值孔徑
초미세광각%편진광%상질%수치공경
在大数值孔径、短波长的投影光学光刻系统中,对S偏振光、P偏振光和非偏振光在硅片上的成像进行了研究,发现S偏振光成像具有最高的光强对数斜率值和最大的对比度;模拟了S偏振光通过掩模的电场分布机理,结果表明,可以通过调制照明光的偏振性来提高成像对比度和分辨力.
在大數值孔徑、短波長的投影光學光刻繫統中,對S偏振光、P偏振光和非偏振光在硅片上的成像進行瞭研究,髮現S偏振光成像具有最高的光彊對數斜率值和最大的對比度;模擬瞭S偏振光通過掩模的電場分佈機理,結果錶明,可以通過調製照明光的偏振性來提高成像對比度和分辨力.
재대수치공경、단파장적투영광학광각계통중,대S편진광、P편진광화비편진광재규편상적성상진행료연구,발현S편진광성상구유최고적광강대수사솔치화최대적대비도;모의료S편진광통과엄모적전장분포궤리,결과표명,가이통과조제조명광적편진성래제고성상대비도화분변력.
