浙江理工大学学报
浙江理工大學學報
절강리공대학학보
JOURNAL OF ZHEJIANG SCI-TECH UNIVERSITY
2012年
2期
274-276
,共3页
α-SiCx:H薄膜%快速热处理%光学性能%钝化性能
α-SiCx:H薄膜%快速熱處理%光學性能%鈍化性能
α-SiCx:H박막%쾌속열처리%광학성능%둔화성능
对不同温度下PECVD沉积的α-SiCx:H薄膜进行750℃、30 s的快速热处理性能研究,并利用紫外-可见-近红外分光光谱仪、光学膜厚测试仪和微波光电子衰减仪对样品反射率、折射率和少子寿命进行表征.结果表明,快速热处理会使α -SiCx:H薄膜折射率升高,但对薄膜反射率的影响不大.较低温度(＜300℃)沉积的薄膜在快速热处理之后钝化效果提升,较高温度(≥300℃)沉积的薄膜在快速热处理之后钝化效果有所下降.
對不同溫度下PECVD沉積的α-SiCx:H薄膜進行750℃、30 s的快速熱處理性能研究,併利用紫外-可見-近紅外分光光譜儀、光學膜厚測試儀和微波光電子衰減儀對樣品反射率、摺射率和少子壽命進行錶徵.結果錶明,快速熱處理會使α -SiCx:H薄膜摺射率升高,但對薄膜反射率的影響不大.較低溫度(＜300℃)沉積的薄膜在快速熱處理之後鈍化效果提升,較高溫度(≥300℃)沉積的薄膜在快速熱處理之後鈍化效果有所下降.
대불동온도하PECVD침적적α-SiCx:H박막진행750℃、30 s적쾌속열처이성능연구,병이용자외-가견-근홍외분광광보의、광학막후측시의화미파광전자쇠감의대양품반사솔、절사솔화소자수명진행표정.결과표명,쾌속열처리회사α -SiCx:H박막절사솔승고,단대박막반사솔적영향불대.교저온도(＜300℃)침적적박막재쾌속열처리지후둔화효과제승,교고온도(≥300℃)침적적박막재쾌속열처리지후둔화효과유소하강.
