北京航空航天大学学报
北京航空航天大學學報
북경항공항천대학학보
2006年
10期
1193-1198,1204
,共7页
沈志刚%俞晓正%徐政%裴喜华
瀋誌剛%俞曉正%徐政%裴喜華
침지강%유효정%서정%배희화
磁控溅射%金属膜%微颗粒%空心微珠%碳化硅
磁控濺射%金屬膜%微顆粒%空心微珠%碳化硅
자공천사%금속막%미과립%공심미주%탄화규
采用磁控溅射方法,成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜.利用光学显微镜(OM)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、多功能扫描探针显微镜(SPM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)和光电子能谱仪(XPS)等测试仪器对其表面形貌、膜厚和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制微颗粒的运动方式,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少,都有利于薄膜结晶.
採用磁控濺射方法,成功地在微顆粒錶麵沉積瞭金屬銅膜和金屬鎳膜.利用光學顯微鏡(OM)、場髮射掃描電子顯微鏡(FESEM)、能譜儀(EDS)、多功能掃描探針顯微鏡(SPM)、電感耦閤等離子體髮射光譜儀(ICP-AES)和光電子能譜儀(XPS)等測試儀器對其錶麵形貌、膜厚和組份進行瞭錶徵.重點討論瞭不同的沉積條件對薄膜結晶的影響,併用X射線衍射儀(XRD)對其進行瞭錶徵.結果錶明,濺射鍍膜時,通過控製微顆粒的運動方式,可以在微顆粒錶麵鍍上均勻性好、附著力彊和緻密性好的金屬膜.濺射時間越長或濺射功率越大或裝載量越少,都有利于薄膜結晶.
채용자공천사방법,성공지재미과립표면침적료금속동막화금속얼막.이용광학현미경(OM)、장발사소묘전자현미경(FESEM)、능보의(EDS)、다공능소묘탐침현미경(SPM)、전감우합등리자체발사광보의(ICP-AES)화광전자능보의(XPS)등측시의기대기표면형모、막후화조빈진행료표정.중점토론료불동적침적조건대박막결정적영향,병용X사선연사의(XRD)대기진행료표정.결과표명,천사도막시,통과공제미과립적운동방식,가이재미과립표면도상균균성호、부착력강화치밀성호적금속막.천사시간월장혹천사공솔월대혹장재량월소,도유리우박막결정.