西安理工大学学报
西安理工大學學報
서안리공대학학보
JOURNAL OF XI'AN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2011年
2期
214-218
,共5页
别勋%王钰萍%吕建国%叶志镇
彆勛%王鈺萍%呂建國%葉誌鎮
별훈%왕옥평%려건국%협지진
ZnO%多层薄膜%透明导电%磁控溅射
ZnO%多層薄膜%透明導電%磁控濺射
ZnO%다층박막%투명도전%자공천사
研究Ga掺杂ZnO(GZO)和Cu薄膜形成的GZO/Cu/GZO多层薄膜体系,以期提高透明导电薄膜的综合性能.GZO/Cu/GZO多层薄膜由直流磁控溅射技术在室温下制备,研究Cu层厚度对多层薄膜结构、电学和光学性能的影响.结果表明GZO/Cu/GZO多层薄膜具有较好的结晶性能.随着Cu层厚度的增加,多层薄膜的可见光透射率有所降低,同时电学性能大幅度提升.在Cu层厚度为7.5 nm时,GZO/Cu/GZO多层薄膜获得最优的光电综合性能指标,且相对于单层GZO薄膜ΦTC因子从7.65×10-5 Ω-1增加到1.48×10-3Ω-1.
研究Ga摻雜ZnO(GZO)和Cu薄膜形成的GZO/Cu/GZO多層薄膜體繫,以期提高透明導電薄膜的綜閤性能.GZO/Cu/GZO多層薄膜由直流磁控濺射技術在室溫下製備,研究Cu層厚度對多層薄膜結構、電學和光學性能的影響.結果錶明GZO/Cu/GZO多層薄膜具有較好的結晶性能.隨著Cu層厚度的增加,多層薄膜的可見光透射率有所降低,同時電學性能大幅度提升.在Cu層厚度為7.5 nm時,GZO/Cu/GZO多層薄膜穫得最優的光電綜閤性能指標,且相對于單層GZO薄膜ΦTC因子從7.65×10-5 Ω-1增加到1.48×10-3Ω-1.
연구Ga참잡ZnO(GZO)화Cu박막형성적GZO/Cu/GZO다층박막체계,이기제고투명도전박막적종합성능.GZO/Cu/GZO다층박막유직류자공천사기술재실온하제비,연구Cu층후도대다층박막결구、전학화광학성능적영향.결과표명GZO/Cu/GZO다층박막구유교호적결정성능.수착Cu층후도적증가,다층박막적가견광투사솔유소강저,동시전학성능대폭도제승.재Cu층후도위7.5 nm시,GZO/Cu/GZO다층박막획득최우적광전종합성능지표,차상대우단층GZO박막ΦTC인자종7.65×10-5 Ω-1증가도1.48×10-3Ω-1.
