西安工业大学学报
西安工業大學學報
서안공업대학학보
JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
2012年
4期
270-273
,共4页
直流磁过滤电弧源%氧化钛薄膜%光学特性%沉积速率
直流磁過濾電弧源%氧化鈦薄膜%光學特性%沉積速率
직류자과려전호원%양화태박막%광학특성%침적속솔
为了探索电弧源离子镀技术制备的氧化钛薄膜的透射率、消光系数和折射率,利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃基底上制备了氧化钛薄膜,通过分光光度计和椭偏仪对薄膜的透射率、折射率和消光系数等光学特性和沉积速率进行分析研究.研究结果表明:波长在400～700nm之间,氧化钛薄膜的折射率为2.3389～2.1189；消光系数在10-3数量级上,消光系数小,薄膜吸收小,薄膜峰值透射率接近K9基底的透射率；沉积时间30min,薄膜的厚度是678.2nm,电弧源离子镀技术沉积氧化钛薄膜的平均速率为22.6nm/min.
為瞭探索電弧源離子鍍技術製備的氧化鈦薄膜的透射率、消光繫數和摺射率,利用直流磁過濾電弧源在K9玻璃基底上製備瞭氧化鈦薄膜,通過分光光度計和橢偏儀對薄膜的透射率、摺射率和消光繫數等光學特性和沉積速率進行分析研究.研究結果錶明:波長在400～700nm之間,氧化鈦薄膜的摺射率為2.3389～2.1189；消光繫數在10-3數量級上,消光繫數小,薄膜吸收小,薄膜峰值透射率接近K9基底的透射率；沉積時間30min,薄膜的厚度是678.2nm,電弧源離子鍍技術沉積氧化鈦薄膜的平均速率為22.6nm/min.
위료탐색전호원리자도기술제비적양화태박막적투사솔、소광계수화절사솔,이용직류자과려전호원재K9파리기저상제비료양화태박막,통과분광광도계화타편의대박막적투사솔、절사솔화소광계수등광학특성화침적속솔진행분석연구.연구결과표명:파장재400～700nm지간,양화태박막적절사솔위2.3389～2.1189；소광계수재10-3수량급상,소광계수소,박막흡수소,박막봉치투사솔접근K9기저적투사솔；침적시간30min,박막적후도시678.2nm,전호원리자도기술침적양화태박막적평균속솔위22.6nm/min.
