真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2009年
3期
268-272
,共5页
张军峰%边心超%陈强%张跃飞%刘福平
張軍峰%邊心超%陳彊%張躍飛%劉福平
장군봉%변심초%진강%장약비%류복평
发射光谱%甲烷%大气压等离子枪%电子温度
髮射光譜%甲烷%大氣壓等離子鎗%電子溫度
발사광보%갑완%대기압등리자창%전자온도
以甲烷为反应气体,氩气为辅助气体,通过大气压介质阻挡放电等离子枪,制备纳米类金刚石.在此过程中,利用发射光谱对甲烷等离子体中产生的活性粒子进行光学发射特征的原位诊断.通过对检测到的发射光谱谱图的研究,证实了CH、C2、Hα等自由基粒子的存在,研究了不同的实验参数,如放电电压和气体流量对CH活性粒子发射强度的影响,并由此分析了甲烷可能的离解过程,同时计算了不同条件下的电子温度.结果表明,随着输入电压及CH4流量的增加,CH自由基的发射强度随之增加.根据掺入甲烷的Ar原子谱线计算出电子温度,其范围在0.4eV~0.6eV之间,而且随着输入电压及气体流量的增加而降低.
以甲烷為反應氣體,氬氣為輔助氣體,通過大氣壓介質阻擋放電等離子鎗,製備納米類金剛石.在此過程中,利用髮射光譜對甲烷等離子體中產生的活性粒子進行光學髮射特徵的原位診斷.通過對檢測到的髮射光譜譜圖的研究,證實瞭CH、C2、Hα等自由基粒子的存在,研究瞭不同的實驗參數,如放電電壓和氣體流量對CH活性粒子髮射彊度的影響,併由此分析瞭甲烷可能的離解過程,同時計算瞭不同條件下的電子溫度.結果錶明,隨著輸入電壓及CH4流量的增加,CH自由基的髮射彊度隨之增加.根據摻入甲烷的Ar原子譜線計算齣電子溫度,其範圍在0.4eV~0.6eV之間,而且隨著輸入電壓及氣體流量的增加而降低.
이갑완위반응기체,아기위보조기체,통과대기압개질조당방전등리자창,제비납미류금강석.재차과정중,이용발사광보대갑완등리자체중산생적활성입자진행광학발사특정적원위진단.통과대검측도적발사광보보도적연구,증실료CH、C2、Hα등자유기입자적존재,연구료불동적실험삼수,여방전전압화기체류량대CH활성입자발사강도적영향,병유차분석료갑완가능적리해과정,동시계산료불동조건하적전자온도.결과표명,수착수입전압급CH4류량적증가,CH자유기적발사강도수지증가.근거참입갑완적Ar원자보선계산출전자온도,기범위재0.4eV~0.6eV지간,이차수착수입전압급기체류량적증가이강저.