电沉积WO3薄膜及其光电性能的表征
전침적WO3박막급기광전성능적표정
Electro-deposition and characterization of photoelectrochemical properties of WO3 thin films
  • 万方数据
    化学研究与应用 화학연구여응용
    CHEMICAL RESEARCH AND APPLICATION
    2010年 5期 550-553 ,共4页

    郝金玲%姜春萍%张艳辉%杨鑫%康洪%陈金伟%练晓娟%刘尚军%王瑞林

    학금령%강춘평%장염휘%양흠%강홍%진금위%련효연%류상군%왕서림

    氧化钨薄膜%电沉积%光催化分解水%光电流光谱(IPCE) 氧化鎢薄膜%電沉積%光催化分解水%光電流光譜(IPCE)
    양화오박막%전침적%광최화분해수%광전류광보(IPCE)
    本文采用电化学法制备了均匀、附着力强的WO3薄膜,研究了不同沉积电位和不同的沉积时间对薄膜的光电性能影响,并使用了XRD,UV-vis,M-S,光电流光谱(IPCE)等分析表征手段对薄膜进行了表征.实验结果表明,所制得的WO3薄膜为单斜晶系,退火后沿(200)晶面择优生长;对比所有沉积电位,-0.45 V沉积电位(vs.SCE)所获得的WO3薄膜均匀致密,薄膜的带边在460 nm(≈2.7 eV),其光电转换性能最好;在实验范围内薄膜越厚,其光电转换性能越好.
    본문채용전화학법제비료균균、부착력강적WO3박막,연구료불동침적전위화불동적침적시간대박막적광전성능영향,병사용료XRD,UV-vis,M-S,광전류광보(IPCE)등분석표정수단대박막진행료표정.실험결과표명,소제득적WO3박막위단사정계,퇴화후연(200)정면택우생장;대비소유침적전위,-0.45 V침적전위(vs.SCE)소획득적WO3박막균균치밀,박막적대변재460 nm(≈2.7 eV),기광전전환성능최호;재실험범위내박막월후,기광전전환성능월호.
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