电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2011年
12期
12-14
,共3页
王春梅%佟丽英%史继祥%王聪
王春梅%佟麗英%史繼祥%王聰
왕춘매%동려영%사계상%왕총
硼%扩散浓度%扩散深度
硼%擴散濃度%擴散深度
붕%확산농도%확산심도
boron%diffusion concentration%diffusion depth
对硼扩散浓度和扩散深度的控制技术进行了研究。通过采用两步扩散步骤、预扩散采用双面扩散的方式、再分布采用密闭碳化硅管、控制扩散温度和扩散时间,有效地控制了扩散层浓度和结深。
對硼擴散濃度和擴散深度的控製技術進行瞭研究。通過採用兩步擴散步驟、預擴散採用雙麵擴散的方式、再分佈採用密閉碳化硅管、控製擴散溫度和擴散時間,有效地控製瞭擴散層濃度和結深。
대붕확산농도화확산심도적공제기술진행료연구。통과채용량보확산보취、예확산채용쌍면확산적방식、재분포채용밀폐탄화규관、공제확산온도화확산시간,유효지공제료확산층농도화결심。
In this paper,the diffusion concentration and diffusion depth of boron control technology were studied.Through a two-step diffusion procedure,we use double-sided diffusion in pre-diffusion and sealed silicon carbide tube in the next diffusion.By controlling the diffusion temperature and diffusion time,diffusion concentration and junction depth have been effectively controlled.
