传感器与微系统
傳感器與微繫統
전감기여미계통
TRANSDUCER AND MICROSYSTEM TECHNOLOGY
2008年
8期
39-41
,共3页
张召涛%杨晓红%马勇%孙彩芹%闫勇彦%朱绍平
張召濤%楊曉紅%馬勇%孫綵芹%閆勇彥%硃紹平
장소도%양효홍%마용%손채근%염용언%주소평
直流磁控溅射%Ti-WO3薄膜%退火%气敏特性
直流磁控濺射%Ti-WO3薄膜%退火%氣敏特性
직류자공천사%Ti-WO3박막%퇴화%기민특성
用X射线衍射和透射电镜表征了直流磁控溅射法制得的Ti-WO3薄膜的晶型、晶格常数、粒径等.研究了退火对Ti-WO3薄膜气敏性质和微结构的影响,找出了最佳退火温度和工作温度;并对机理进行了分析.结果表明:450℃退火的薄膜的气敏效应很好,最佳工作温度在150℃左右;
用X射線衍射和透射電鏡錶徵瞭直流磁控濺射法製得的Ti-WO3薄膜的晶型、晶格常數、粒徑等.研究瞭退火對Ti-WO3薄膜氣敏性質和微結構的影響,找齣瞭最佳退火溫度和工作溫度;併對機理進行瞭分析.結果錶明:450℃退火的薄膜的氣敏效應很好,最佳工作溫度在150℃左右;
용X사선연사화투사전경표정료직류자공천사법제득적Ti-WO3박막적정형、정격상수、립경등.연구료퇴화대Ti-WO3박막기민성질화미결구적영향,조출료최가퇴화온도화공작온도;병대궤리진행료분석.결과표명:450℃퇴화적박막적기민효응흔호,최가공작온도재150℃좌우;
