用脉冲激光沉积技术制备与分析嵌入非晶SiO2中的锗纳米粒子
용맥충격광침적기술제비여분석감입비정SiO2중적타납미입자
Preparation and Analysis of Germanium Nanoparticles Embedded in Amorphous SiO2 Matrices Using the Pulsed Laser Deposition(PLD)Method
  • 万方数据
    江西科学 강서과학
    JIANGXI SCIENCE
    2008年 5期 777-780 ,共4页

    吴闰生%王伟

    오윤생%왕위

    脉冲激光沉积系统%纳米粒子%薄膜材料%XRD 脈遲激光沉積繫統%納米粒子%薄膜材料%XRD
    맥충격광침적계통%납미입자%박막재료%XRD
    介绍了Ge纳米粒子的特性,及利用脉冲激光沉积系统(PLD)制备Ge纳米粒子嵌入非晶SiO2薄膜中的方法、理论依据和工艺条件及结果.X射线衍射及晶体分析软件确定了锗纳米粒子在600℃中退火时的晶格常数变小而衍射强度增加,其晶格常数减小可能是由于锗的周围氧化生成氧化锗壳层包围并挤压Ge纳米粒子所致.
    개소료Ge납미입자적특성,급이용맥충격광침적계통(PLD)제비Ge납미입자감입비정SiO2박막중적방법、이론의거화공예조건급결과.X사선연사급정체분석연건학정료타납미입자재600℃중퇴화시적정격상수변소이연사강도증가,기정격상수감소가능시유우타적주위양화생성양화타각층포위병제압Ge납미입자소치.
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