离子注入装备发展趋势
리자주입장비발전추세
The Current Development of Ion Implantation Equipment
  • 万方数据
    电子工业专用设备 전자공업전용설비
    EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
    2006年 11期 5-8,74 ,共5页

    龚杰洪%张彬庭%伍三忠

    공걸홍%장빈정%오삼충

    离子注入%等效掺杂%大角度注入%低能大束流 離子註入%等效摻雜%大角度註入%低能大束流
    리자주입%등효참잡%대각도주입%저능대속류
    简述了现代集成电路制造工艺的发展状况,详细的介绍了制造工艺各技术节点离子注入工艺所面临的挑战及解决方案.
    간술료현대집성전로제조공예적발전상황,상세적개소료제조공예각기술절점리자주입공예소면림적도전급해결방안.
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