半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2006年
3期
166-169
,共4页
IC制造%清洗技术%挑战
IC製造%清洗技術%挑戰
IC제조%청세기술%도전
概述了半导体制造中清洗技术所面临的挑战及生产中存在的问题,分析了解决问题的途径,讨论了当前IC制造中关键清洗技术的发展方向.对于国产清洗设备制造业的发展提出了自己的看法.
概述瞭半導體製造中清洗技術所麵臨的挑戰及生產中存在的問題,分析瞭解決問題的途徑,討論瞭噹前IC製造中關鍵清洗技術的髮展方嚮.對于國產清洗設備製造業的髮展提齣瞭自己的看法.
개술료반도체제조중청세기술소면림적도전급생산중존재적문제,분석료해결문제적도경,토론료당전IC제조중관건청세기술적발전방향.대우국산청세설비제조업적발전제출료자기적간법.
