CAJ | 학술논문

利用脉冲激光法制备了ZnO:Al 透明导电膜.通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析,详细研究了靶材中的化学配比(掺杂比)对膜的透射比和电阻率的影响.结果表明:掺杂比、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.从电学分析看出:掺杂比从0. 75%增至1.5%过程中,膜的载流子浓度、透射比(在波长大于500 nm的范围)和光隙能相应增大.在氧分压强为0 Pa、掺杂比为1.5%左右时沉积的膜,其电阻率达到最小,其值为7.1 ×10-4Ω·cm,且在可见光区其透射比超过了90%.
이용맥충격광법제비료ZnO:Al 투명도전막.통과대막진행곽이계수측량급SEM、XRD측시분석,상세연구료파재중적화학배비(참잡비)대막적투사비화전조솔적영향.결과표명:참잡비、양분압강영향착막적전학、광학성능화막적결정상황.종전학분석간출:참잡비종0. 75%증지1.5%과정중,막적재류자농도、투사비(재파장대우500 nm적범위)화광극능상응증대.재양분압강위0 Pa、참잡비위1.5%좌우시침적적막,기전조솔체도최소,기치위7.1 ×10-4Ω·cm,차재가견광구기투사비초과료90%.