沈阳工业大学学报
瀋暘工業大學學報
침양공업대학학보
JOURNAL OF SHENYANG POLYTECHNIC UNIVERSITY
1999年
3期
204-206
,共3页
溅射%SiO2膜%力学特性
濺射%SiO2膜%力學特性
천사%SiO2막%역학특성
介绍了在不锈钢衬底和Ni-Cr应变电阻间SiO2薄膜的制做方法,在不宜用热氧化和CVD法制做SiO2膜的情况下,利用该法是行之有效的.探讨了溅射工艺条件对膜附着力和应力的影响,并指出了制备具有较好附着力和较低应力的方法.
介紹瞭在不鏽鋼襯底和Ni-Cr應變電阻間SiO2薄膜的製做方法,在不宜用熱氧化和CVD法製做SiO2膜的情況下,利用該法是行之有效的.探討瞭濺射工藝條件對膜附著力和應力的影響,併指齣瞭製備具有較好附著力和較低應力的方法.
개소료재불수강츤저화Ni-Cr응변전조간SiO2박막적제주방법,재불의용열양화화CVD법제주SiO2막적정황하,이용해법시행지유효적.탐토료천사공예조건대막부착력화응력적영향,병지출료제비구유교호부착력화교저응력적방법.
