微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2002年
4期
287-290
,共4页
冉建桥%刘欣%唐哲%刘中其
冉建橋%劉訢%唐哲%劉中其
염건교%류흔%당철%류중기
低温共烧陶瓷%MCM-C%厚膜混合工艺
低溫共燒陶瓷%MCM-C%厚膜混閤工藝
저온공소도자%MCM-C%후막혼합공예
介绍了目前国际上厚膜混合工艺技术的动态,指出了低温共烧陶瓷技术(LTCC)是MCM-C发展的重要趋势.探讨了国内MCM-C技术的现状,认为必须同IC技术保持紧密的联系,才能得到良好的发展.
介紹瞭目前國際上厚膜混閤工藝技術的動態,指齣瞭低溫共燒陶瓷技術(LTCC)是MCM-C髮展的重要趨勢.探討瞭國內MCM-C技術的現狀,認為必鬚同IC技術保持緊密的聯繫,纔能得到良好的髮展.
개소료목전국제상후막혼합공예기술적동태,지출료저온공소도자기술(LTCC)시MCM-C발전적중요추세.탐토료국내MCM-C기술적현상,인위필수동IC기술보지긴밀적련계,재능득도량호적발전.
