材料科学与工程
材料科學與工程
재료과학여공정
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
1999年
4期
10-13
,共4页
孟祥森%袁骏%马青松%葛曼珍%杨辉
孟祥森%袁駿%馬青鬆%葛曼珍%楊輝
맹상삼%원준%마청송%갈만진%양휘
氮氧化硅%薄膜%制备%化学气相沉积%物理气相沉积%高温氮化
氮氧化硅%薄膜%製備%化學氣相沉積%物理氣相沉積%高溫氮化
담양화규%박막%제비%화학기상침적%물리기상침적%고온담화
氮氧化硅薄膜综合了SiO2膜和Si3N4膜的优点,具有优秀的光电性能,力学性能和稳定性能,已经在光电领域获得了广泛地应用,此外在材料改性方面也有广阔的应用前景.本文综合评述了几种氮氧化硅薄膜的制备方法,比较了各自的优缺点,并指出了今后制备方法的发展趋势.
氮氧化硅薄膜綜閤瞭SiO2膜和Si3N4膜的優點,具有優秀的光電性能,力學性能和穩定性能,已經在光電領域穫得瞭廣汎地應用,此外在材料改性方麵也有廣闊的應用前景.本文綜閤評述瞭幾種氮氧化硅薄膜的製備方法,比較瞭各自的優缺點,併指齣瞭今後製備方法的髮展趨勢.
담양화규박막종합료SiO2막화Si3N4막적우점,구유우수적광전성능,역학성능화은정성능,이경재광전영역획득료엄범지응용,차외재재료개성방면야유엄활적응용전경.본문종합평술료궤충담양화규박막적제비방법,비교료각자적우결점,병지출료금후제비방법적발전추세.
