连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
련속미광학원건재광각효상적면형공제
Profile Control of Continuous Relief MOE in Photoresist
  • 万方数据
    光学学报 광학학보
    ACTA OPTICA SINICA
    2000年 5期 691-696 ,共6页

    曾红军%杜春雷%王永茹%白临波%邓启凌%陈波%郭履容%袁景和

    증홍군%두춘뢰%왕영여%백림파%산계릉%진파%곽리용%원경화

    连续微光学元件%光刻胶线性%倒易关系%面形控制 連續微光學元件%光刻膠線性%倒易關繫%麵形控製
    련속미광학원건%광각효선성%도역관계%면형공제
    介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法.分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围,并以此指导面形的控制,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作.本文还给出了实验验证,制作出了多种质量优良的连续微光学元件,并对典型元件的面形进行了评价.
    개소료련속미광학원건재광각효상적면형공제방법.분석료광각효급현영액재제작이원화련속원건중소존재적차별;도출구유도역관계적부조심도표체식화괄용적범위,병이차지도면형적공제,대광각효진행괄당적개조이괄응련속미광학원건적제작.본문환급출료실험험증,제작출료다충질량우량적련속미광학원건,병대전형원건적면형진행료평개.
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