功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2008年
4期
844-847
,共4页
王晓明%谢二庆%叶凡%段辉高%周明
王曉明%謝二慶%葉凡%段輝高%週明
왕효명%사이경%협범%단휘고%주명
直流溅射%HfNxOy薄膜%场致电子发射
直流濺射%HfNxOy薄膜%場緻電子髮射
직류천사%HfNxOy박막%장치전자발사
利用直流溅射法在Si、Zn、Ni三种不同衬底上沉积HfNxOy薄膜并测试了其场发射性能.扫描电子显微镜(SEM)显示HfNxOy薄膜表面由纳米颗粒组成,X射线衍射(XRD)说明薄膜中含有HfN和HfO2两种相.场发射测试结果显示,和金属衬底上的薄膜相比,Si衬底上的薄膜的开启电场小且发射电流密度大.文中对三种衬底上发射电流密度大小不同的原因进行了讨论.电流一时间的对应关系说明HfNxOy薄膜的场发射电流稳定.
利用直流濺射法在Si、Zn、Ni三種不同襯底上沉積HfNxOy薄膜併測試瞭其場髮射性能.掃描電子顯微鏡(SEM)顯示HfNxOy薄膜錶麵由納米顆粒組成,X射線衍射(XRD)說明薄膜中含有HfN和HfO2兩種相.場髮射測試結果顯示,和金屬襯底上的薄膜相比,Si襯底上的薄膜的開啟電場小且髮射電流密度大.文中對三種襯底上髮射電流密度大小不同的原因進行瞭討論.電流一時間的對應關繫說明HfNxOy薄膜的場髮射電流穩定.
이용직류천사법재Si、Zn、Ni삼충불동츤저상침적HfNxOy박막병측시료기장발사성능.소묘전자현미경(SEM)현시HfNxOy박막표면유납미과립조성,X사선연사(XRD)설명박막중함유HfN화HfO2량충상.장발사측시결과현시,화금속츤저상적박막상비,Si츤저상적박막적개계전장소차발사전류밀도대.문중대삼충츤저상발사전류밀도대소불동적원인진행료토론.전류일시간적대응관계설명HfNxOy박막적장발사전류은정.
