科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2010年
17期
4145-4147
,共3页
史勤益%姜海霞%赵先锐%方晓霞%陈苏丹%李勤涛
史勤益%薑海霞%趙先銳%方曉霞%陳囌丹%李勤濤
사근익%강해하%조선예%방효하%진소단%리근도
硅纳米圆锥%离子溅射%场发射
硅納米圓錐%離子濺射%場髮射
규납미원추%리자천사%장발사
利用碳薄膜作为模板,采用能量1.2 keV的Ar离子束室温溅射的方法制备了大面积高密度的硅纳米圆锥.硅纳米圆锥的密度约为(1-2)×109/cm2.场发射性能测量结果表明硅纳米圆锥阵列的场发射性能和碳纳米纤维的场发射性能相当,比已经报道的硅纳米圆锥的场发射性能更好.
利用碳薄膜作為模闆,採用能量1.2 keV的Ar離子束室溫濺射的方法製備瞭大麵積高密度的硅納米圓錐.硅納米圓錐的密度約為(1-2)×109/cm2.場髮射性能測量結果錶明硅納米圓錐陣列的場髮射性能和碳納米纖維的場髮射性能相噹,比已經報道的硅納米圓錐的場髮射性能更好.
이용탄박막작위모판,채용능량1.2 keV적Ar리자속실온천사적방법제비료대면적고밀도적규납미원추.규납미원추적밀도약위(1-2)×109/cm2.장발사성능측량결과표명규납미원추진렬적장발사성능화탄납미섬유적장발사성능상당,비이경보도적규납미원추적장발사성능경호.
