中国激光
中國激光
중국격광
CHINESE JOURNAL OF LASERS
2006年
2期
242-247
,共6页
谭天亚%黄建兵%占美琼%邵建达%范正修
譚天亞%黃建兵%佔美瓊%邵建達%範正脩
담천아%황건병%점미경%소건체%범정수
薄膜%增透膜%二倍频%矢量合成法%LBO晶体%误差分析%过渡层
薄膜%增透膜%二倍頻%矢量閤成法%LBO晶體%誤差分析%過渡層
박막%증투막%이배빈%시량합성법%LBO정체%오차분석%과도층
采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%.根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%.材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%.沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率.与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小.低折射率膜层的厚度变化对特定波长处的剩余反射率影响最明显,即为该膜系的敏感层.为改善膜基之间的附着力,选择Y2O3或SiO2作为过渡层,从过渡层的厚度匹配和膜层的折射率匹配两方面进行了相应的膜系匹配设计.
採用矢量閤成法設計瞭LiB3O5(LBO)晶體上1064 nm,532 nm二倍頻增透膜,在1064 nm處的反射率為0.0014%,532 nm處的反射率為0.0004%.根據誤差分析,薄膜製備時沉積速率精度控製在+6.5%時,1064 nm處的反射率增加至0.22%,532 nm處增加至0.87%.材料摺射率的變化控製在+3%時,1064 nm處的反射率達0.24%,532 nm處達0.22%.沉積速率和摺射率控製的負變化不增大特定波長處的剩餘反射率.與膜層摺射率相比,薄膜物理厚度對剩餘反射率的影響小.低摺射率膜層的厚度變化對特定波長處的剩餘反射率影響最明顯,即為該膜繫的敏感層.為改善膜基之間的附著力,選擇Y2O3或SiO2作為過渡層,從過渡層的厚度匹配和膜層的摺射率匹配兩方麵進行瞭相應的膜繫匹配設計.
채용시량합성법설계료LiB3O5(LBO)정체상1064 nm,532 nm이배빈증투막,재1064 nm처적반사솔위0.0014%,532 nm처적반사솔위0.0004%.근거오차분석,박막제비시침적속솔정도공제재+6.5%시,1064 nm처적반사솔증가지0.22%,532 nm처증가지0.87%.재료절사솔적변화공제재+3%시,1064 nm처적반사솔체0.24%,532 nm처체0.22%.침적속솔화절사솔공제적부변화불증대특정파장처적잉여반사솔.여막층절사솔상비,박막물리후도대잉여반사솔적영향소.저절사솔막층적후도변화대특정파장처적잉여반사솔영향최명현,즉위해막계적민감층.위개선막기지간적부착력,선택Y2O3혹SiO2작위과도층,종과도층적후도필배화막층적절사솔필배량방면진행료상응적막계필배설계.
