功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2004年
2期
171-176
,共6页
陈玲玲%程珊华%宁兆元%辛煜
陳玲玲%程珊華%寧兆元%辛煜
진령령%정산화%저조원%신욱
a-C:F%沉积温度%红外吸收谱%热稳定性
a-C:F%沉積溫度%紅外吸收譜%熱穩定性
a-C:F%침적온도%홍외흡수보%열은정성
在不同的沉积温度下,利用CHF3和C2H2为气体源,在微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)系统中制备了氟化非晶碳(a-C:F)薄膜,为了研究其热稳定性,薄膜在500℃的真空中作了退火处理.测量了退火前后其电学、光学性质的变化,使用FTIR、Raman、XPS方法考察了其结构随沉积温度的变化,分析了性质同结构之间的关联.结果表明,在高的沉积温度下制备的薄膜中的F/C比较低,CF2和CF3键成分较少而以CF键成分为主,其交联程度高,因而具有较好的热稳定性.
在不同的沉積溫度下,利用CHF3和C2H2為氣體源,在微波電子迴鏇共振等離子體化學氣相沉積(ECR-CVD)繫統中製備瞭氟化非晶碳(a-C:F)薄膜,為瞭研究其熱穩定性,薄膜在500℃的真空中作瞭退火處理.測量瞭退火前後其電學、光學性質的變化,使用FTIR、Raman、XPS方法攷察瞭其結構隨沉積溫度的變化,分析瞭性質同結構之間的關聯.結果錶明,在高的沉積溫度下製備的薄膜中的F/C比較低,CF2和CF3鍵成分較少而以CF鍵成分為主,其交聯程度高,因而具有較好的熱穩定性.
재불동적침적온도하,이용CHF3화C2H2위기체원,재미파전자회선공진등리자체화학기상침적(ECR-CVD)계통중제비료불화비정탄(a-C:F)박막,위료연구기열은정성,박막재500℃적진공중작료퇴화처리.측량료퇴화전후기전학、광학성질적변화,사용FTIR、Raman、XPS방법고찰료기결구수침적온도적변화,분석료성질동결구지간적관련.결과표명,재고적침적온도하제비적박막중적F/C비교저,CF2화CF3건성분교소이이CF건성분위주,기교련정도고,인이구유교호적열은정성.
