南京大学学报（自然科学版）
南京大學學報（自然科學版）
남경대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY(NATURAL SCIENCES)
2009年
4期
517-522
,共6页
袁远%顾艳妮%李志炜%张鉴%袁长胜%葛海雄%陈延峰
袁遠%顧豔妮%李誌煒%張鑒%袁長勝%葛海雄%陳延峰
원원%고염니%리지위%장감%원장성%갈해웅%진연봉
纳米压印%透射光栅%微电镀%反应离子刻蚀
納米壓印%透射光柵%微電鍍%反應離子刻蝕
납미압인%투사광책%미전도%반응리자각식
采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅网案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀.微电镀.紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1:1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光同化纳米压印技术和反应离子刎蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用r纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金白支撑透射光栅.
採用納米壓印技術作為製備亞微米週期光柵網案的覈心技術,併結閤反應離子刻蝕,電子束蒸鍍.微電鍍.紫外光刻,濕法刻蝕成功製作瞭麵積為5 mm×8 mm、週期為200 nm、佔空比近1:1的大麵積金自支撐透射光柵.首先利用紫外光同化納米壓印技術和反應離子刎蝕在高分子膠層上複製齣石英模闆上的納米光柵結構,然後用微電鍍技術製備齣金光柵.為瞭穫得具有較深槽深的光柵圖形,採用瞭納米壓印雙層膠工藝體繫.此工藝利用r納米壓印技術分辨率高、效率高的優點,併且可以製備齣剖麵陡直、對比度高的高分辨率納米光柵線條.最後用紫外光刻,微電鍍和濕法腐蝕製作齣支撐結構,穫得金白支撐透射光柵.
채용납미압인기술작위제비아미미주기광책망안적핵심기술,병결합반응리자각식,전자속증도.미전도.자외광각,습법각식성공제작료면적위5 mm×8 mm、주기위200 nm、점공비근1:1적대면적금자지탱투사광책.수선이용자외광동화납미압인기술화반응리자문식재고분자효층상복제출석영모판상적납미광책결구,연후용미전도기술제비출금광책.위료획득구유교심조심적광책도형,채용료납미압인쌍층효공예체계.차공예이용r납미압인기술분변솔고、효솔고적우점,병차가이제비출부면두직、대비도고적고분변솔납미광책선조.최후용자외광각,미전도화습법부식제작출지탱결구,획득금백지탱투사광책.
