CAJ | 학술논문

以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征.将所制备的复合磨料用于硅晶片表面二氧化硅介质层的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌,并测量表面粗糙度.结果表明:所制备的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒呈近球形,粒径为250～300 nm,且具有核壳包覆结构,包覆层的厚度为10～20 nm;硅晶片表面二氧化硅介质层经PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒抛光后,表面无划痕,且非常平整,在5 μm×5 μm范围内,粗糙度均方根值(RMS)分别为0.238 nm和0.254 nm.
이취분을희(PS)미구위내핵,채용액상법제비구유핵각결구적PS/CeO2화PS/SiO2복합과립.이용X사선연사의、투사전자현미경、장발사소묘전자현미경、부리협전환홍외광보의화열중분석의등대소제비양품적물상결구、형모화립경등진행표정.장소제비적복합마료용우규정편표면이양화규개질층적화학궤계포광,채용원자력현미경관찰포광표면적미관형모,병측량표면조조도.결과표명:소제비적PS/CeO2화PS/SiO2복합과립정근구형,립경위250～300 nm,차구유핵각포복결구,포복층적후도위10～20 nm;규정편표면이양화규개질층경PS/CeO2화PS/SiO2복합과립포광후,표면무화흔,차비상평정,재5 μm×5 μm범위내,조조도균방근치(RMS)분별위0.238 nm화0.254 nm.