应用光学
應用光學
응용광학
JOURNAL OF APPLIED OPTICS
2009年
1期
76-79,83
,共5页
石一磊%苏俊宏%杨利红%徐均琪
石一磊%囌俊宏%楊利紅%徐均琪
석일뢰%소준굉%양리홍%서균기
相位偏移干涉法%干涉图%薄膜%薄膜厚度测量
相位偏移榦涉法%榦涉圖%薄膜%薄膜厚度測量
상위편이간섭법%간섭도%박막%박막후도측량
为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试.结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障.
為解決薄膜厚度的高精度測量問題,提齣一種基于相位偏移榦涉術的薄膜厚度測量新方法,利用該方法對一箇實際SiO2薄膜樣片進行測試,通過對所穫取的榦涉圖進行相位解包及數據分析處理,實現對薄膜樣片厚度的精確測試.結果錶明:該方法具有非接觸和測量精度高等優點,所測薄膜厚度的峰穀值為0.162μm,均方根值為0.043μm,為薄膜工藝的進一步研究提供瞭檢測方法上的技術保障.
위해결박막후도적고정도측량문제,제출일충기우상위편이간섭술적박막후도측량신방법,이용해방법대일개실제SiO2박막양편진행측시,통과대소획취적간섭도진행상위해포급수거분석처리,실현대박막양편후도적정학측시.결과표명:해방법구유비접촉화측량정도고등우점,소측박막후도적봉곡치위0.162μm,균방근치위0.043μm,위박막공예적진일보연구제공료검측방법상적기술보장.
