宇航学报
宇航學報
우항학보
JOURNAL OF ASTRONAUTICS
2005年
2期
121-125,167
,共6页
极高真空%轨道分子屏%材料加工
極高真空%軌道分子屏%材料加工
겁고진공%궤도분자병%재료가공
给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.
給齣瞭一種新型的近地軌道極高真空分子屏實驗室設計.作者計算瞭可變翼分子屏週圍大氣分子的入射及散射、分子屏材料放氣在屏內的分子數流密度.通過調整分子屏的翼角,分子屏內的壓力可以達到10-12Pa.計算結果指齣:在近地軌道選擇閤適的分子屏參數,可以在極高真空環境下加工超純材料.
급출료일충신형적근지궤도겁고진공분자병실험실설계.작자계산료가변익분자병주위대기분자적입사급산사、분자병재료방기재병내적분자수류밀도.통과조정분자병적익각,분자병내적압력가이체도10-12Pa.계산결과지출:재근지궤도선택합괄적분자병삼수,가이재겁고진공배경하가공초순재료.
