材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2010年
24期
91-94,110
,共5页
郭平义%张建兵%黄东伟%邵勇%李为立
郭平義%張建兵%黃東偉%邵勇%李為立
곽평의%장건병%황동위%소용%리위립
电化学氧化%热处理氧化%纯钛%腐蚀性能
電化學氧化%熱處理氧化%純鈦%腐蝕性能
전화학양화%열처리양화%순태%부식성능
利用电化学氧化、热处理氧化对商业纯钛进行表面处理.不同的氧化电压和时间将产生不同形貌的氧化钛膜,电压过大时会生成很多的瘤状氧化物.热处理氧化后,钛表面生成均匀金红石和锐钛矿型混合氧化物膜,并且氧化膜下会出现Ti-O固溶体构成的渗氧层.在酸性含氯溶液和碱溶液中比较不同处理后钛板的腐蚀性能,在2种腐蚀介质中所有材料均随电位升高进入钝化区.在酸性溶液中,电化学氧化处理后钛板的腐蚀电流、维钝电流密度最小;在碱性溶液中,虽然热处理氧化对应维钝电流密度最小,但其钝化电位区间比电化学氧化对应电位区间窄.扫描电镜分析表明,热处理氧化膜随电位升高局部出现破损,而未经过表面处理的钛板,局部区域发生沿晶腐蚀.
利用電化學氧化、熱處理氧化對商業純鈦進行錶麵處理.不同的氧化電壓和時間將產生不同形貌的氧化鈦膜,電壓過大時會生成很多的瘤狀氧化物.熱處理氧化後,鈦錶麵生成均勻金紅石和銳鈦礦型混閤氧化物膜,併且氧化膜下會齣現Ti-O固溶體構成的滲氧層.在痠性含氯溶液和堿溶液中比較不同處理後鈦闆的腐蝕性能,在2種腐蝕介質中所有材料均隨電位升高進入鈍化區.在痠性溶液中,電化學氧化處理後鈦闆的腐蝕電流、維鈍電流密度最小;在堿性溶液中,雖然熱處理氧化對應維鈍電流密度最小,但其鈍化電位區間比電化學氧化對應電位區間窄.掃描電鏡分析錶明,熱處理氧化膜隨電位升高跼部齣現破損,而未經過錶麵處理的鈦闆,跼部區域髮生沿晶腐蝕.
이용전화학양화、열처리양화대상업순태진행표면처리.불동적양화전압화시간장산생불동형모적양화태막,전압과대시회생성흔다적류상양화물.열처리양화후,태표면생성균균금홍석화예태광형혼합양화물막,병차양화막하회출현Ti-O고용체구성적삼양층.재산성함록용액화감용액중비교불동처리후태판적부식성능,재2충부식개질중소유재료균수전위승고진입둔화구.재산성용액중,전화학양화처리후태판적부식전류、유둔전류밀도최소;재감성용액중,수연열처리양화대응유둔전류밀도최소,단기둔화전위구간비전화학양화대응전위구간착.소묘전경분석표명,열처리양화막수전위승고국부출현파손,이미경과표면처리적태판,국부구역발생연정부식.
