真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2011年
5期
652-655
,共4页
池华敬%熊凯%郭帅%许丽%王双%陈革%章其初
池華敬%熊凱%郭帥%許麗%王雙%陳革%章其初
지화경%웅개%곽수%허려%왕쌍%진혁%장기초
增透膜%反应溅射%沸水氧化%薄膜%金属陶瓷%Al-AlN%AIN%Al2O3%AINxOy
增透膜%反應濺射%沸水氧化%薄膜%金屬陶瓷%Al-AlN%AIN%Al2O3%AINxOy
증투막%반응천사%비수양화%박막%금속도자%Al-AlN%AIN%Al2O3%AINxOy
在3.2mm厚的低铁玻璃衬底上采用金属Al靶在溅射气体Ar和反应气体H2的混合气体中,真空磁控反应溅射沉积半透明的Al-AlN金属陶瓷薄膜.再将沉积该薄膜的玻璃试样浸入沸腾的去离子水中,经一定时间氧化后,制备成表面粗糙的AlN和Al2O3的陶瓷混合物增透膜AlNxOy.在3.2 mm厚的低铁玻璃上,溅射沉积厚度为120 nm的Al-AlN金属陶瓷薄膜,沸水氧化8 min,制备的单面增透膜AlNxOy试样的太阳透射比Te达93.5％,可见光透射比Tv达95.2％.制备的双面增透膜AlNxOy试样的Te,Tv进一步提高,Te高达95.6％,与未镀膜玻璃衬底的90.4％相比,增加了5.2％；Tv高达97.0％,与玻璃衬底的91.6％相比,增加了5.4％.
在3.2mm厚的低鐵玻璃襯底上採用金屬Al靶在濺射氣體Ar和反應氣體H2的混閤氣體中,真空磁控反應濺射沉積半透明的Al-AlN金屬陶瓷薄膜.再將沉積該薄膜的玻璃試樣浸入沸騰的去離子水中,經一定時間氧化後,製備成錶麵粗糙的AlN和Al2O3的陶瓷混閤物增透膜AlNxOy.在3.2 mm厚的低鐵玻璃上,濺射沉積厚度為120 nm的Al-AlN金屬陶瓷薄膜,沸水氧化8 min,製備的單麵增透膜AlNxOy試樣的太暘透射比Te達93.5％,可見光透射比Tv達95.2％.製備的雙麵增透膜AlNxOy試樣的Te,Tv進一步提高,Te高達95.6％,與未鍍膜玻璃襯底的90.4％相比,增加瞭5.2％；Tv高達97.0％,與玻璃襯底的91.6％相比,增加瞭5.4％.
재3.2mm후적저철파리츤저상채용금속Al파재천사기체Ar화반응기체H2적혼합기체중,진공자공반응천사침적반투명적Al-AlN금속도자박막.재장침적해박막적파리시양침입비등적거리자수중,경일정시간양화후,제비성표면조조적AlN화Al2O3적도자혼합물증투막AlNxOy.재3.2 mm후적저철파리상,천사침적후도위120 nm적Al-AlN금속도자박막,비수양화8 min,제비적단면증투막AlNxOy시양적태양투사비Te체93.5％,가견광투사비Tv체95.2％.제비적쌍면증투막AlNxOy시양적Te,Tv진일보제고,Te고체95.6％,여미도막파리츤저적90.4％상비,증가료5.2％；Tv고체97.0％,여파리츤저적91.6％상비,증가료5.4％.
