真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2006年
4期
268-271
,共4页
张莉%严学俭%朱国栋%曾志刚%沈淼%A.Pohlers
張莉%嚴學儉%硃國棟%曾誌剛%瀋淼%A.Pohlers
장리%엄학검%주국동%증지강%침묘%A.Pohlers
铜薄膜%氧化%原子力显微镜%微观表征
銅薄膜%氧化%原子力顯微鏡%微觀錶徵
동박막%양화%원자력현미경%미관표정
本文研究了在100℃～400℃下溅射制备的40nm铜薄膜的氧化行为.利用原子力显微镜(AFM)观察了铜薄膜氧化前期的微观形貌,并利用X射线衍射(XRD)和能量分散X射线谱(EDX)分析了其晶相结构和成份.随着温度的升高,铜薄膜氧化速率明显加快.在100℃下,Cu薄膜表面生成岛状非晶氧化物,温度升高至200℃后,生成Cu2O相的同时Cu薄膜表面产生重构现象,呈现疏松的网状结构.300℃和400℃下Cu薄膜几乎全部氧化,分别形成均匀分布的Cu2O和CuO晶粒.结果表明,利用AFM和XBD能灵敏地跟踪纳米尺度Cu薄膜的氧化过程.
本文研究瞭在100℃～400℃下濺射製備的40nm銅薄膜的氧化行為.利用原子力顯微鏡(AFM)觀察瞭銅薄膜氧化前期的微觀形貌,併利用X射線衍射(XRD)和能量分散X射線譜(EDX)分析瞭其晶相結構和成份.隨著溫度的升高,銅薄膜氧化速率明顯加快.在100℃下,Cu薄膜錶麵生成島狀非晶氧化物,溫度升高至200℃後,生成Cu2O相的同時Cu薄膜錶麵產生重構現象,呈現疏鬆的網狀結構.300℃和400℃下Cu薄膜幾乎全部氧化,分彆形成均勻分佈的Cu2O和CuO晶粒.結果錶明,利用AFM和XBD能靈敏地跟蹤納米呎度Cu薄膜的氧化過程.
본문연구료재100℃～400℃하천사제비적40nm동박막적양화행위.이용원자력현미경(AFM)관찰료동박막양화전기적미관형모,병이용X사선연사(XRD)화능량분산X사선보(EDX)분석료기정상결구화성빈.수착온도적승고,동박막양화속솔명현가쾌.재100℃하,Cu박막표면생성도상비정양화물,온도승고지200℃후,생성Cu2O상적동시Cu박막표면산생중구현상,정현소송적망상결구.300℃화400℃하Cu박막궤호전부양화,분별형성균균분포적Cu2O화CuO정립.결과표명,이용AFM화XBD능령민지근종납미척도Cu박막적양화과정.
