真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2006年
1期
62-64,8
,共4页
陈淑霞%顾长志%李海钧%吕宪义%金曾孙
陳淑霞%顧長誌%李海鈞%呂憲義%金曾孫
진숙하%고장지%리해균%려헌의%금증손
硅尖和碳纳米管的混合物%金镍复合膜%密度分布%刻蚀效应
硅尖和碳納米管的混閤物%金鎳複閤膜%密度分佈%刻蝕效應
규첨화탄납미관적혼합물%금얼복합막%밀도분포%각식효응
以金镍复合膜为催化剂,运用等离子体增强的热丝化学气相沉积法制备了一种硅尖和高质量定向碳纳米管的混合物.为制备这种混合物,实验中96%的高浓度氢气和相对高的生长压力被使用.改变生长压力时,不同的产物--混合物、纯碳纳米管和纯硅尖可分别被得到.在1.1×10-6Pa的高真空下,不同产物的场发射性能分别被测试,结果显示,混合物具有优异的场发射性能--低的阈值电场,高的电流密度和稳定的发射电流.其场发射性能优异的原因可主要归结为混合物中碳纳米管合适的密度分布及高质量碳纳米管的出现.文中对混合物的形成原因也作了详细的讨论.
以金鎳複閤膜為催化劑,運用等離子體增彊的熱絲化學氣相沉積法製備瞭一種硅尖和高質量定嚮碳納米管的混閤物.為製備這種混閤物,實驗中96%的高濃度氫氣和相對高的生長壓力被使用.改變生長壓力時,不同的產物--混閤物、純碳納米管和純硅尖可分彆被得到.在1.1×10-6Pa的高真空下,不同產物的場髮射性能分彆被測試,結果顯示,混閤物具有優異的場髮射性能--低的閾值電場,高的電流密度和穩定的髮射電流.其場髮射性能優異的原因可主要歸結為混閤物中碳納米管閤適的密度分佈及高質量碳納米管的齣現.文中對混閤物的形成原因也作瞭詳細的討論.
이금얼복합막위최화제,운용등리자체증강적열사화학기상침적법제비료일충규첨화고질량정향탄납미관적혼합물.위제비저충혼합물,실험중96%적고농도경기화상대고적생장압력피사용.개변생장압력시,불동적산물--혼합물、순탄납미관화순규첨가분별피득도.재1.1×10-6Pa적고진공하,불동산물적장발사성능분별피측시,결과현시,혼합물구유우이적장발사성능--저적역치전장,고적전류밀도화은정적발사전류.기장발사성능우이적원인가주요귀결위혼합물중탄납미관합괄적밀도분포급고질량탄납미관적출현.문중대혼합물적형성원인야작료상세적토론.
