真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2001年
4期
315-318
,共4页
程敏%唐天同%姚振华%郭德政
程敏%唐天同%姚振華%郭德政
정민%당천동%요진화%곽덕정
磁浸没透镜%单纯形法%轴上像散%最优化设计
磁浸沒透鏡%單純形法%軸上像散%最優化設計
자침몰투경%단순형법%축상상산%최우화설계
以磁浸没透镜的电流密度值的大小为优化参量,以成像系统的轴上像散为目标函数,利用单纯形优化法对用于投射式电子束曝光系统的新型磁浸没透镜进行了优化设计.结果表明,目标函数由未经优化前的358.187 nm降低到50.693 nm.同时单纯形优化法不需要已知目标函数与优化参量之间的解析关系式及求导,因此作为电子光学系统的最优化设计具有明显的优越性.
以磁浸沒透鏡的電流密度值的大小為優化參量,以成像繫統的軸上像散為目標函數,利用單純形優化法對用于投射式電子束曝光繫統的新型磁浸沒透鏡進行瞭優化設計.結果錶明,目標函數由未經優化前的358.187 nm降低到50.693 nm.同時單純形優化法不需要已知目標函數與優化參量之間的解析關繫式及求導,因此作為電子光學繫統的最優化設計具有明顯的優越性.
이자침몰투경적전류밀도치적대소위우화삼량,이성상계통적축상상산위목표함수,이용단순형우화법대용우투사식전자속폭광계통적신형자침몰투경진행료우화설계.결과표명,목표함수유미경우화전적358.187 nm강저도50.693 nm.동시단순형우화법불수요이지목표함수여우화삼량지간적해석관계식급구도,인차작위전자광학계통적최우화설계구유명현적우월성.
