微电子技术
微電子技術
미전자기술
MICRO ELECTRONIC TECHNOLOGY
2001年
2期
28-32
,共5页
亚微米工艺%设计规则%成品率%光刻%刻蚀
亞微米工藝%設計規則%成品率%光刻%刻蝕
아미미공예%설계규칙%성품솔%광각%각식
本文主要对亚微米工艺设计规则进行探讨，旨在促进设计公司与Fab厂家之间信息反馈，共同努力并顺利进入亚微米和深亚微米领域。
本文主要對亞微米工藝設計規則進行探討，旨在促進設計公司與Fab廠傢之間信息反饋，共同努力併順利進入亞微米和深亞微米領域。
본문주요대아미미공예설계규칙진행탐토，지재촉진설계공사여Fab엄가지간신식반궤，공동노력병순리진입아미미화심아미미영역。
The design rule of submicron technology is discussed in the paper,the prupose is to promote the liaison of information between design centers and Fabs,and to help them to cooperate well and to enter the sphere of submicron or deep submicron technology successfully.
