哈尔滨商业大学学报(自然科学版)
哈爾濱商業大學學報(自然科學版)
합이빈상업대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF HARBIN UNIVERSITY OF COMMERCE(NATURAL SCIENCES EDITION)
2001年
3期
31-32
,共2页
电子束蒸发%光致发光%薄膜%X射线衍射(XRD)
電子束蒸髮%光緻髮光%薄膜%X射線衍射(XRD)
전자속증발%광치발광%박막%X사선연사(XRD)
用电子束蒸发方法在硅衬低上制备ZnO薄膜,测量了ZnO薄膜的XRD谱,表明六角晶体结构的薄膜具有强C轴择优取向(002),并且,测量了ZnO薄膜样品的二次离子质谱(SIMS),表明其化学剂量比为1∶1.在光致发光实验中,用He-Cdi激光器的325nm(50mω)波长激发,观察到了385nm的紫外光发射.
用電子束蒸髮方法在硅襯低上製備ZnO薄膜,測量瞭ZnO薄膜的XRD譜,錶明六角晶體結構的薄膜具有彊C軸擇優取嚮(002),併且,測量瞭ZnO薄膜樣品的二次離子質譜(SIMS),錶明其化學劑量比為1∶1.在光緻髮光實驗中,用He-Cdi激光器的325nm(50mω)波長激髮,觀察到瞭385nm的紫外光髮射.
용전자속증발방법재규츤저상제비ZnO박막,측량료ZnO박막적XRD보,표명륙각정체결구적박막구유강C축택우취향(002),병차,측량료ZnO박막양품적이차리자질보(SIMS),표명기화학제량비위1∶1.재광치발광실험중,용He-Cdi격광기적325nm(50mω)파장격발,관찰도료385nm적자외광발사.
