硅酸盐通报
硅痠鹽通報
규산염통보
BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY
2000年
2期
19-21
,共3页
孟祥森%马青松%葛曼珍%杨辉
孟祥森%馬青鬆%葛曼珍%楊輝
맹상삼%마청송%갈만진%양휘
氮氧化硅%APCVD%硬度%高温氧化性%表面改性
氮氧化硅%APCVD%硬度%高溫氧化性%錶麵改性
담양화규%APCVD%경도%고온양화성%표면개성
我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(＜700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究.研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景.
我們用常壓化學氣相沉積法(APCVD),以SiH4和NH3為先驅體,在較低的溫度(＜700℃)下製備氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,併對其性能進行瞭研究.研究結果錶明氮氧化硅薄膜能使改性後平闆玻璃硬度提高40%,併具有良好的抗高溫氧化性,這種薄膜在材料錶麵改性領域有著廣闊的應用前景.
아문용상압화학기상침적법(APCVD),이SiH4화NH3위선구체,재교저적온도(＜700℃)하제비담양화규(Si-O-N)박막,병대기성능진행료연구.연구결과표명담양화규박막능사개성후평판파리경도제고40%,병구유량호적항고온양화성,저충박막재재료표면개성영역유착엄활적응용전경.
