应用化工
應用化工
응용화공
APPLIED CHEMICAL INDUSTRY
2009年
2期
216-218
,共3页
HfOxNy薄膜%直流反应磁控溅射%椭偏仪%光学特性
HfOxNy薄膜%直流反應磁控濺射%橢偏儀%光學特性
HfOxNy박막%직류반응자공천사%타편의%광학특성
采用直流反应磁控溅射方法,在硅衬底制备了高介电HfOxNy薄膜.用椭偏仪研究了后期退火处理对薄膜光学性质的影响,结果表明,薄膜的折射率随退火温度的升高而增加,这主要是由于高温退火导致薄膜内部缺陷减少,使得薄膜松散的内部结构变得更加致密;薄膜的消光系数随退火温度的升高而降低, 这是由于因为退火后薄膜内的缺陷减少.光学禁带宽度随退火温度的升高而增加,这是由于退火过程中薄膜中N 含量的减少而导致.
採用直流反應磁控濺射方法,在硅襯底製備瞭高介電HfOxNy薄膜.用橢偏儀研究瞭後期退火處理對薄膜光學性質的影響,結果錶明,薄膜的摺射率隨退火溫度的升高而增加,這主要是由于高溫退火導緻薄膜內部缺陷減少,使得薄膜鬆散的內部結構變得更加緻密;薄膜的消光繫數隨退火溫度的升高而降低, 這是由于因為退火後薄膜內的缺陷減少.光學禁帶寬度隨退火溫度的升高而增加,這是由于退火過程中薄膜中N 含量的減少而導緻.
채용직류반응자공천사방법,재규츤저제비료고개전HfOxNy박막.용타편의연구료후기퇴화처리대박막광학성질적영향,결과표명,박막적절사솔수퇴화온도적승고이증가,저주요시유우고온퇴화도치박막내부결함감소,사득박막송산적내부결구변득경가치밀;박막적소광계수수퇴화온도적승고이강저, 저시유우인위퇴화후박막내적결함감소.광학금대관도수퇴화온도적승고이증가,저시유우퇴화과정중박막중N 함량적감소이도치.
