CAJ | 학술논문

本文采用俄罗斯UVN0．5D21脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材_b_~TiAIN膜层。研究了膜层沉积过程中，脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层耐磨性的影响。研究结果表明：N离子束轰击能量为0keV时，磨损初期TiAIN膜层的摩擦系数为0．3；磨损时间为70111in时，膜层的摩擦系数突然增加，膜层全部脱落，部分基材已经被磨损，摩擦系数为0．6。轰击能量为7．5keV时，磨损初期TiAlN膜层的摩擦系数为0．13；磨损时间为150min时，膜层表面没有出现脱落现象，有部分很浅的磨裹，膜层的摩擦系数为0．25。
본문채용아라사UVN0．5D21맥충리자속보조전호리자도침적설비，재고속강W18Cr4V기재_b_~TiAIN막층。연구료막층침적과정중，맥충N리자속굉격대TiAIN막층내마성적영향。연구결과표명：N리자속굉격능량위0keV시，마손초기TiAIN막층적마찰계수위0．3；마손시간위70111in시，막층적마찰계수돌연증가，막층전부탈락，부분기재이경피마손，마찰계수위0．6。굉격능량위7．5keV시，마손초기TiAlN막층적마찰계수위0．13；마손시간위150min시，막층표면몰유출현탈락현상，유부분흔천적마과，막층적마찰계수위0．25。